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厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
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蒸發(fā)鍍膜與真空手套箱組合,實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作,使整個(gè)薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
真空鍍膜系統(tǒng)用途:主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等實(shí)驗(yàn)研究與應(yīng)用。現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī),主要用于一些放氣量較少的普通玻璃上鍍膜,由于大面積有機(jī)玻璃放氣量較大,熱變形溫度低,剛性低,因此現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)無法鍍制大面積有機(jī)玻璃?,F(xiàn)有的鍍膜機(jī)蒸發(fā)源間呈正方形分布,這樣鍍出的膜層均勻性差,無法大面積有機(jī)玻璃在鍍制過程中不變形。為了克服現(xiàn)有技術(shù)之不足,提供一種真空鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。
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